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產(chǎn)品名稱：六氟乙烷
產(chǎn)品介紹：
六氟乙烷，又名氟碳116，因其無毒無臭、高穩(wěn)定性被廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體制造過程中，例如作為蝕刻劑（Dry Etch）、化學(xué)氣相沉積（CVD, Chemical Vapor Deposition）后的清洗腔體。特別是隨著半導(dǎo)體器件的發(fā)展，集成電路精度要求越來越高，常規(guī)的濕法腐蝕不能滿足0.18~0.25um 的深亞微米集成電路高精度細(xì)線蝕刻的要求，而六氟乙烷作為干腐蝕劑具有邊緣側(cè)向侵蝕現(xiàn)象極微、高蝕刻率及高精確性的優(yōu)點(diǎn)，可以極好地滿足此類線寬較小的制程的要求。作為清洗氣體，六氟乙烷的優(yōu)越性主要表現(xiàn)在排放性低、氣體利用率高、反映室清潔率和設(shè)備產(chǎn)出率高。另外，六氟乙烷ODP 值（臭氧層破壞潛能值） 為零，GWP 值（溫室效應(yīng)能力）為9200，是氯氟烴類蝕刻氣體的最佳替代產(chǎn)品。
六氟乙烷，又名氟碳116，因其無毒無臭、高穩(wěn)定性被廣泛應(yīng)用在半導(dǎo)體制造過程中，例如作為蝕刻劑（Dry Etch）、化學(xué)氣相沉積（CVD, Chemical Vapor Deposition）后的清洗腔體。特別是隨著半導(dǎo)體器件的發(fā)展，集成電路精度要求越來越高，常規(guī)的濕法腐蝕不能滿足0.18~0.25um 的深亞微米集成電路高精度細(xì)線蝕刻的要求，而六氟乙烷作為干腐蝕劑具有邊緣側(cè)向侵蝕現(xiàn)象極微、高蝕刻率及高精確性的優(yōu)點(diǎn)，可以極好地滿足此類線寬較小的制程的要求。作為清洗氣體，六氟乙烷的優(yōu)越性主要表現(xiàn)在排放性低、氣體利用率高、反映室清潔率和設(shè)備產(chǎn)出率高。另外，六氟乙烷ODP 值（臭氧層破壞潛能值） 為零，GWP 值（溫室效應(yīng)能力）為9200，是氯氟烴類蝕刻氣體的最佳替代產(chǎn)品。
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